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高純氯氣在微電子工業(yè)中的應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間:2021-12-13來(lái)源:洛陽(yáng)華普高純氣體點(diǎn)擊:2158

  高純氯氣在微電子工業(yè)中的應(yīng)用

  微電子工業(yè)的半導(dǎo)體器件和大規(guī)模集成電路的可靠性,在很大程度上取決于半導(dǎo)體表面的熱氧化、等離子蝕刻、晶體生長(zhǎng)等技術(shù),而這些工藝過(guò)程則需使用高純氯氣,氯氣質(zhì)量的好壞會(huì)直接影響電子元器件的質(zhì)量。

高純氯氣

  二氧化硅中的Na*是造成硅平面元件和MOS器件性能不穩(wěn)定的主要原因。若在干氧化時(shí)摻入適量的高純氯氣,就能有效地消除Na,從而大大改善MOS器件的電性能。用氯氣進(jìn)行二氧化硅的熱氧化和蝕刻是美國(guó)材料檢驗(yàn)學(xué)會(huì)標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的方法。

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